Applied E3は、半導体、フラットパネル、太陽電池製造工場の生産性向上とコスト削減をもたらす包括的なFA（工場自動化）パッケージです。　Applied E3は　プロセス効率を30%以上高め、予定外のダウンタイムやサイクルタイムを短縮し、全体的な装置効率を最大20％向上させることができます。

Applied E3 はSEMI E133　Process Control System （PCS)に定義されるAPCアプリケーション、単一コンフィグレーション環境、歩留まりコントロールおよび運用システム間で必要となるデータの共有化を図るファクトリワイドでのAPCアプリケーション構築を提供します。
コア部分として、データアクセス、ログ、セキュリティ、メッセージ受渡し、負荷平準化の共通枠組を提供します。またこのプラットフォームの上で、PCS 準拠のR2R (ランツーラン) , FDC (障害検出・分類), EPT (装置パフォーマンストラッキング) 各エンジンが動作する他､デザイナーというGUI機能により、カスタムアプリケーションを作成できます。
R2R（ランツーラン） アプリケーションとして、CMP, Etch CD, Litho CD, Litho Overlay のモジュールが提供できます。